Neuer Intel-Chip für mehr Akkulaufzeit
Intel hat ein neues Prozessor-Fertigungsverfahren entwickelt, das die Akkulaufzeit von mobilen Geräten verlängern soll. Durch Modifikationen am Transistoraufbau würden die drei Hauptquellen für Leckströme - im der Fachsprache Sub-Threshold-Leakage, Junction-Leakage und Gate-Oxid-Leakage genannt - erheblich reduziert.
Eine neue Variante des 65-Nanometer-Verfahrens erlaube eine engere Anordnung der Leiterbahnen sowie eine deutliche Verbesserung der Leistung und des Energieverbrauchs, so Mark Bohr, Leiter der Sparte Prozessarchitektur und -integration bei Intel. Die Anzahl der Transistoren könne gegenüber der herkömmlichen 90-nm-Technologie verdoppelt werden.
AMD reicht Kartellklage ein
Die beiden Chip-Hersteller Intel und AMD zeigen derzeit
öffentlich nicht viel Sympathie für einander. Nach der von AMD
eingereichten Kartellklage sieht sich Intel als Unschuldslamm.
Schlagabtausch zwischen Intel und AMDVerkauf ab 2006
Testversionen des neuen Chips erreichten eine 1000-mal geringere Verlustleistung verglichen mit dem Standardprozessor von Intel. Weitere Merkmale der Fertigungstechnik sind acht Kupfer-Metalllagen und ein höherer Steuerstrom, der die Schaltgeschwindigkeit des Transistors beschleunigt.
Anfang 2006 sollen die Mikroprozessoren zur Verfügung stehen, verkauft werden sie im zweiten Quartal des nächsten Jahres.
~ Link: 65-Nanometer Process Technology (Intel) (http://www.intel.com/cd/corporate/techtrends/emea/eng/209547.htm) ~
65 Nanometer [Wikipedia]