Intel kündigt 32-Nanometer-Chip für 2009 an
Entwicklung der nächsten Generation abgeschlossen
Der weltgrößte Chiphersteller Intel hat die Entwicklungsphase seiner nächsten Fertigungsprozess-Generation abgeschlossen. Die Größe der Transistoren auf dem Chip werde hierbei von den derzeit 45 Nanometern weiter auf 32 Nanometer "geschrumpft", hieß es in einer Pressemeldung vom Mittwoch.
Pressetext von Intel:
Das Unternehmen liege zeitlich auf Kurs, so dass die Produktion der künftigen Prozessorgeneration wie geplant im vierten Quartal 2009 starten könne. Die kleineren Transistoren würden es ermöglichen, auf gleicher Fläche mehr Schaltkreise unterzubringen, so Intel in der Aussendung.
Die Prozessoren auf Basis des 32-Nanometer-Herstellungsverfahrens werden mit der zweiten Generation der High-k- und Metal-Gate-Transistor-Technologie gefertigt. Dabei verwendet Intel die 193-nm-Immersionslithographie für die kritischen Schichten auf dem Chip sowie eine verbesserte Transistor-Strain-Technik. "Bei dieser wird das natürliche Kristallgitter des Siliziums künstlich 'gestreckt', was die Beweglichkeit der Ladungsträger steigert und so der Transistor schneller schaltet", so Intel.