Spezielles Licht sorgt für kleinere Chips
In einem Gemeinschaftsunternehmen namens Philips EUV GmbH mit der Fraunhofer-Gesellschaft [20 Prozent] will Philips [80 Prozent] den Durchbruch auf dem Weg zur Produktion von Chips der nächsten Generation erreichen.
Derzeit setzt die Industrie Ultraviolett-Laser mit Wellenlängen von 248 Nanometern ein, ab 2003 sollen Wellen von 157 Nanometer Länge verwendet werden, die Strukturbreiten auf dem Silizium-Chip von 65 Nanometern ermöglichen werden.
Extrem ultraviolettes Licht
Um noch kleinere Strukturen erzeugen zu können, sind völlig neue
Lichtquellen wie extrem ultraviolettes Licht [EUV] mit Wellenlängen
zwischen elf und 14 Nanometern, [14 Millionstel Millimeter]
erforderlich, die bisher unbekannte technische Herausforderungen mit
sich bringen.
Fraunhofer-Institut für LasertechnikDas Fraunhofer-Institut für Lasertechnik [ILT] in Aachen hat eine solche Lampe zum Erzeugen von EUV-Licht entwickelt, die bereits als "Aachener Lampe" patentiert wurde.
Sie hat nach Einschätzung von führenden Wissenschaftlern und Geräteherstellern auf der ganzen Welt beste Aussichten, sich künftig als Lichtquelle der Wahl bei der Chipherstellung durchzusetzen.
Prototypen im kommenden Jahr
Laut Joseph Pankert, Geschäftsführer der Philips EUV GmbH, sollen
Prototypen schon im kommenden Jahr fertig sein, bis zum Jahr 2005
sollen die Gerätehersteller marktreife Produkte erhalten. Ab 2007
ist dann die Serienproduktion von Chips geplant. Die EUV-Lampen
werden bei Philips in Aachen produziert.
Philips