Intel optimiert Chip-Herstellungsverfahren
Intel hat die Entwicklung des 0,13-Mikron-Herstellungsprozess abgeschlossen. Als weltweit erstes Unternehmen will Intel in dieser neuen Strukturbreite bereits SRAMs und CPUs hergestellt haben.
Nicht weniger als neun Fabriken sollen bis 2003 Chips mit 0,13 Mikron herstellen.
Gegenüber den bisherigen Strukturbreiten von 0,18 Mikron, in denen beispielsweise der Pentium III/Coppermine hergestellt wird, beansprucht ein in 0,13 Mikron hergestellter Chip effektiv nur die Hälfte des Platzes auf einem Wafer.
Die kleineren Strukturbreiten bedingen
auch eine geringere Versorgungsspannung und erlauben wegen der
dadurch verringerten Verlustleistung höhere Taktfrequenzen. Bei
Intels "P860" getauftem Herstellungsverfahren kommen sechs
Metallisierungslagen mit Kupferverbindungen zum Einsatz.
Intel.comIntel überspringt 0,18-Mikron-Verfahren
0,13 Mikron entsprechen in den Ausmaßen einem Tausendstel der Breite eines menschlichen Haares.
Im Vergleich zu AMD, die auf ihre Kupferfabrik Fab30 in Dresden mehr als stolz sind, hat Intel den Schritt mit 0,18 Mikron und Kupfer-Interconnects übersprungen.
Der Prozessor-Primus beansprucht mit der neuen Technologie nun wieder den Titel des modernsten Herstellungsverfahrens.
Neue Chip-Beschleunigung in der Pipeline
Das neue Herstellungsverfahren ist auch die Basis für noch schnellere Chips.
Intel will mit dem "P860-Prozess" CPUs mit mehreren Gigahertz herstellen, die nur eine Kernspannung von 1,3 Volt benötigen. Nach dem Coppermine-Verfahren produzierte Chips erfordern im Vergleich dazu 1,65 bis 1,7 Volt.
Um welche Prozessoren es sich dabei handelt, hat Intel offiziell noch nicht bekannt gegeben.
Aus anderen Quellen ist aber bekannt, dass Mitte 2001 unter dem Namen "Coppermine-T" eine neue Version des Pentium III im neuen Herstellungsprozess ansteht.