04.11.2002

IBM

Bislang schnellster SiGe-Transistor

IBM hat nach eigenen Angaben den bislang schnellsten Transistor auf Silizium-Basis überhaupt entwickelt. Mit Hilfe eines modifizierten Designs komme das für die Halbleitertechnik grundlegende Schaltelement auf eine Taktrate von 350 GHz, meldet Big Blue.

Zusammensetzung

Der neue ultraschnelle Transistor besteht aus einer Kombination von Silizium und Germanium [SiGe], ist ungewöhnlich dünn und verfügt deswegen über besonders kurze Wege für durchfließende Elektronen.

Details seiner Technik will der Konzern im kommenden Monat auf dem Kongress International Electron Devices der IEEE in San Francisco präsentieren.