Intel eröffnete neues Chipwerk
Intel hat in Rio Rancho, New Mexico, sein Chipwerk mit einer Bausumme von zwei Milliarden USD erweitert.
Die neue Ausbaustufe mit der Bezeichnung Fab 11X wird vorerst Chips mit 130-Nanometer-Prozesstechnologie auf 300-Millimeter-Wafern erzeugen. Bereits im Jahr 2003 soll der Umstieg auf den 90-Nanometer-Prozess erfolgen.
Lob des 300-Millimeter-Wafers
"Diese Erweiterung ist die Umsetzung unserer festen Überzeugung, dass wir auch in ökonomisch schwierigen Zeiten weiterhin in neue Produkte und Produktionsanlagen investieren müssen", erklärte Intel-Chef Paul Otellini zur Eröffnung des Werks.
Durch die Verwendung von 300-Millimeter-Wafern steigt die Chipausbeute pro Silizium-Scheibe um 240 Prozent. Damit lassen sich bei derselben Chipanzahl 48 Prozent der flüchtigen organischen Lösungsmittel einsparen, der Wasserverbrauch sinkt um 42 Prozent.