Intel arbeitet am 30-Nanometer-Prozessor

Intel hat nun die weltweit erste kommerzielle EUV-Lithographie-Anlage, zur Herstellung immer kleinerer Chip-Bausteine, in Betrieb genommen.

Die Strukturen der Chips werden dabei mit extremen ultravioletten Licht [EUV-Lithographie] hergestellt.

"Die EUV-Technik wird uns helfen, auch im kommenden Jahrzehnt von den Vorteilen des Moore'schen Gesetzes profitieren zu können", so Intel-Forscher Ken David.

Die EUV-Technik, die Chips mit Strukturgrößen von 30 Nanometer ermöglichen soll, verlässt damit den Bereich der Forschung und tritt in die Entwicklungsphase.

Beschleunigung durch Transistoren-Verkleinerungen
Das Mooresche Gesetz von Intel-Gründer Gordon Moore besagt, dass sich die Anzahl der Transistoren auf einer gegebenen Fläche Silizium etwa alle zwei Jahre verdoppelt.

Mooresches Gesetz stößt an seine Grenzen

Kleinste Chips derzeit mit 50 Nanometern

In einer Pilotanlage will Intel mit der bisher nur in Forschungslabors getesteten EUV-Lithographie Masken zur Chipproduktion herstellen.

Im Vergleich zu heute eingesetzten Verfahren mit Licht der Wellenlänge 193 Nanometer besitzt EUV-Licht nur noch eine Wellenlänge von 13,5 Nanometern.

Derzeit haben die kleinsten Strukturen, die in Intels Fertigungsanlagen hergestellt werden, eine Größe von 50 Nanometern.

Das Verfahren soll im Jahr 2009 reif für die Massenfertigung sein.